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MARC状态:审校  文献类型:中文图书 浏览次数:27 

题名/责任者:
摄影曝光入门与提高/(美) Jeff Revell著 张婷, 王聪译
出版发行项:
北京:人民邮电出版社,2014.10
ISBN及定价:
978-7-115-36346-6/CNY59.00
载体形态项:
255页:彩图;21cm
统一题名:
From snapshots to great shots exposure
个人责任者:
雷维尔 (Revell, Jeff)
个人次要责任者:
张婷
个人次要责任者:
王聪
学科主题:
曝光-基本知识
中图法分类号:
TB811
中图法分类号:
TB811
版本附注:
据原书第2版译出
出版发行附注:
由美国Peachpit Press授权
责任者附注:
责任者Revell规范汉译姓: 雷维尔
提要文摘附注:
本书详细讲述了影响摄影曝光的各种因素,包括光圈、快门、 ISO、镜头选择和景深,并介绍了其他摄影知识。大量优质的数码照片及其拍摄数据和注释,帮助读者了解如何运用摄影要素拍摄出一张优秀的照片,掌握各种拍摄情况下如何获得最佳曝光的方法。
使用对象附注:
摄影爱好者
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 附件 说明 书刊状态
TB811/22 000666675  - 六楼书库 图书定位    可借
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