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MARC状态:已编  文献类型:中文图书 浏览次数:7 

题名/责任者:
公差与测量技术/主编姜明灿, 张正祥, 吴水萍
出版发行项:
武汉:华中科技大学出版社,2006
ISBN及定价:
7-5609-3848-5/CNY18.50
载体形态项:
177页:图;26cm
丛编项:
21世纪高职高专机电系列规划教材
个人责任者:
姜明灿 主编
个人责任者:
张正祥 主编
个人责任者:
吴水萍 主编
学科主题:
公差-配合
学科主题:
公差-技术测量
中图法分类号:
TG801
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书内容包括:测量技术基础;尺寸公差与检测;形位公差与检测;表面粗糙度与检测;圆锥和角度公差与检测等。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 附件 说明 书刊状态 还书位置
TG801/55 000156717   密集书库 M00243721 图书定位    可借 密集书库
TG801/55 000156718   密集书库 M00243720 图书定位    可借 密集书库
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