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MARC状态:审校  文献类型:中文图书 浏览次数:9 

题名/责任者:
设计素描/张跃华编著
出版发行项:
北京:电子工业出版社,2010.8
ISBN及定价:
978-7-121-11195-2/CNY36.00
载体形态项:
116页:图;29cm
丛编项:
21世纪艺术与设计规划教材.高职高专
个人责任者:
张跃华 编著
学科主题:
素描-技法(美术)-高等学校-教材
中图法分类号:
J214
中图法分类号:
J214
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书共6章,内容包括:学习设计素描的意义、设计素描的概述、设计素描的造型规律、设计素描的表现形式、设计素描的创意形态、作品欣赏。
使用对象附注:
高职高专艺术与设计专业教材。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 附件 说明 书刊状态 还书位置
J214/305 000673036  - 五楼书库 图书定位    可借 五楼书库
J214/305 000673035  - 密集书库 M00280271 图书定位    可借 密集书库
J214/305 000681882  - 密集书库 M00195755 图书定位    可借 密集书库
J214/305 000467183 2010.8 - 密集书库 图书定位    非可借 密集书库
J214/305 000467184 2010.8 - 密集书库 图书定位    非可借 密集书库
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