MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：20
- 题名/责任者:
- MOS集成电路工艺与制造技术/潘桂忠编著
- 出版发行项:
- 上海:上海科学技术出版社,2012
- ISBN及定价:
- 978-7-5478-0980-8/CNY85.00
- 载体形态项:
- 489页:图;26cm
- 个人责任者:
- 潘桂忠 编著
- 学科主题:
- MOS集成电路-集成电路工艺
- 中图法分类号:
- TN432.05
- 中图法分类号:
- TN432
- 书目附注:
- 有书目 (第489页)
- 提要文摘附注:
- 本书全面介绍了MOS集成电路工艺和制造技术。内容包括：硅晶圆衬底，氧化，扩散，离子注入，外延，化学汽相淀积，光刻，付蚀与刻蚀等，PNOS，NMOS，CMOS，LV HV兼容CMOS等制造工艺。
- 使用对象附注:
- 从事MOS集成电路制造、设计等方面工程技术人员，微电子专业高年级本科生，信息领域其他专业的学生和相关科研人员、工程技术人员。
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