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- 010 __ |a 978-7-302-37032-1 |d CNY39.00
- 100 __ |a 20141101d2014 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 集成电路制造技术教程 |A ji cheng dian lu zhi zao ji shu jiao cheng |d Manufacture technology course of integrated circuit |f 李惠军编著 |z eng
- 210 __ |a 北京 |c 清华大学出版社 |d 2014
- 215 __ |a 315页 |c 图 |d 26cm
- 330 __ |a 本书共分为15章。前9章以常规平面工艺为主要教学内容,包括:集成制造技术基础;硅材料及衬底制备;外延生长工艺原理;氧化介质薄膜生长;半导体的高温掺杂;离子注入低温掺杂;薄膜气相淀积工艺;图形光刻工艺原理等。后6章包括:超大规模集成工艺;集成结构测试图形;电路管芯键合封装等。
- 510 1_ |a Manufacture technology course of integrated circuit |z eng
- 606 0_ |a 集成电路工艺 |A Ji Cheng Dian Lu Gong Yi |j 教材
- 701 _0 |a 李惠军 |A li hui jun |4 编著
- 801 _0 |a CN |b WXCSXY |c 20141214
- 905 __ |a WXCSXY |d TN405/6