机读格式显示(MARC)

• 000 01048nam0 2200241 450

• 001 0000441726

• 005 20170103105100.0

• 010 __ |a 978-7-122-26284-4 |d CNY35.00

• 100 __ |a 20160323d2016 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 集成电路制造技术 |A Ji Cheng Dian Lu Zhi Zao Ji Shu |9 ji cheng dian lu zhi zao ji shu |b 专著 |f 杜中一著

• 210 __ |a 北京 |c 化学工业出版社 |d 2016.04

• 215 __ |a 172页 |c 图 |d 24cm

• 330 __ |a 本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术，内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。书中简要介绍了集成电路制造的基本理论基础，系统地介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备，详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。

• 333 __ |a 本书适用于集成电路制造行业从业人员

• 606 0_ |a 集成电路工艺 |A Ji Cheng Dian Lu Gong Yi

• 690 __ |a TN405 |v 5

• 701 _0 |a 杜中一 |A Du Zhong Yi |9 du zhong yi |4 著

• 801 _0 |a CN |b 浙江省新华书店集团公司 |c 20160323

• 905 __ |a WXCSXY |d TN405/10