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• 200 1_ |a MOS集成电路工艺与制造技术 |A MOS Ji Cheng Dian Lu Gong Yi Yu Zhi Zao Ji Shu |f 潘桂忠编著

• 210 __ |a 上海 |c 上海科学技术出版社 |d 2012

• 215 __ |a 489页 |c 图 |d 26cm

• 320 __ |a 有书目 (第489页)

• 330 __ |a 本书全面介绍了MOS集成电路工艺和制造技术。内容包括：硅晶圆衬底，氧化，扩散，离子注入，外延，化学汽相淀积，光刻，付蚀与刻蚀等，PNOS，NMOS，CMOS，LV HV兼容CMOS等制造工艺。

• 333 __ |a 从事MOS集成电路制造、设计等方面工程技术人员，微电子专业高年级本科生，信息领域其他专业的学生和相关科研人员、工程技术人员。

• 606 0_ |a MOS集成电路 |A MOS Ji Cheng Dian Lu |x 集成电路工艺

• 690 __ |a TN432.05 |v 5

• 690 __ |a TN432 |v 4

• 701 _0 |a 潘桂忠 |A Pan Gui Zhong |4 编著

• 801 _0 |a CN |b 江苏新华 |c 20120709

• 905 __ |a WXCSXY |d TN432/14